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详细介绍
PECVD管式炉气相沉积炉是一种用于通过化学气相沉积（CVD）工艺在基底上沉积薄层材料的专用设备。以下是关于气相沉积炉的产品简介：
工作原理
气相沉积炉通过将气态前驱体引入炉内，在高温和/或催化剂的作用下，气态前驱体发生化学反应，生成固态沉积物并在基底表面沉积形成薄膜。
结构组成
反应室：是气相沉积炉的核心部分，用于容纳基底和进行沉积反应，其结构设计会影响气体分布和沉积均匀性，如有的采用卧式结构，有的则是立式结构。
加热系统[__LINK_ICON]：通常由发热体等组成，可提供高温环境，使气态前驱体能够发生反应，如博纳热的气相沉积炉采用HRE电阻丝加热，最高温度可达1200℃。
气体供应系统：包括气体储存罐、质量流量计等，用于精确控制气态前驱体和保护气体的流量和比例。
真空系统[__LINK_ICON]：部分气相沉积炉需要在真空环境下工作，真空系统可抽除反应室内的空气和杂质气体，确保沉积过程的纯净度，如博纳热气相沉积炉标配直连式真空泵，极限真空度可达10Pa。
温度和气氛控制系统[__LINK_ICON]：配备温度传感器和控制器，实时监测和控制炉内温度，同时可控制气氛环境，如通过通入惰性气体防止氧化。
主要特点
高温均匀性：确保基底上的沉积一致，这对获得高质量涂层至关重要。
可编程温度控制：可精确控制沉积过程，实现不同材料和应用的定制。
真空和气体吹扫功能：保持受控气氛，防止污染并确保沉积材料的纯度。
与各种管材的兼容性：CVD炉通常使用石英管或氧化铝管，它们可以承受高温和腐蚀性环境。
应用领域
半导体制造：用于在半导体晶片上沉积硅、二氧化硅和氮化硅等材料的薄膜。
航空航天和汽车工业：用于在机械零件上制作保护涂层，以提高耐用性和抗磨损、抗腐蚀和抗氧化性。
材料科学：用于开发石墨烯、碳纳米管和陶瓷涂层等*材料。
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